类别 | 产品名称 | 镀液组成及操作工艺 | 用途和特性 |
装饰铬电镀 | HN-82高速装饰性镀铬
HN-82 HIGH SPEED
DECORATIVE CHROMIUM
PLATING/ | 铬酐:150-350克/升
纯硫酸:0.75-1.75克/升
铬酐/硫酸:125-250:1
开缸剂HN–82:8-15毫升/升
镀液比重:19-23°波美
工作温度:35-52℃
阴极电流密度:10-20安培/平方分米
添加剂的补充:每加入100公斤铬酐,需要加HN-83补充剂4-5升 | 1. 采用易控制的可溶性混合催化剂,操作简单。
2. 有较高的阴极度电流效率和沉积速度,能在高电流密度下操作。
3. 工件可得到较好的活化,有宽广的光亮范围。
4. 对杂质容忍度好。
5. 优越的覆盖和分散能力。 |
硬铬电镀 | HN-25硬铬电镀
HARD CHROMIUM
PLATING | 铬酐:180-275克/升
纯硫酸:2.0-4.0克/升
硬铬催化剂HN–25:10-25毫升/升
工作温度:50-60℃
阴极电流密度:30-75安培/平方分米
阳极电流密度:15-35安培/平方分米
添加剂的补充:每补充1公斤铬酐添加30-40毫升HN-25硬铬催化剂 |
1. 阴极电流效率高,可达22-26%。
2. 镀层的显微硬度高,防腐能力好。
3. 镀层厚度均匀,细致光亮。
4. 不含氟化物,不会浸蚀工件的低电流区。
|
硬铬电镀 | HN-25R硬铬电镀
HARD CHROMIUM
PLATING | 铬酐:180-275克/升
纯硫酸:2.0-4.0克/升
开缸剂HN–25K:10-30毫升/升
工作温度:50-60℃
阴极电流密度:30-75安培/平方分米
阳极电流密度:15-35安培/平方分米
添加剂的补充:每补充1公斤铬酐添加100毫升HN–25R硬铬补充剂 | 1. 阴极电流效率高,可达22-26%。
2. 镀层的显微硬度高,防腐能力好。
3. 镀层厚度均匀,细致光亮。
4. 不含氟化物,不会浸蚀工件的低电流区。 |
碱性化学镀镍 | NICHEM 1000碱性化学镀镍
NICHEM 1000
AUTO-CATALYTIC NICKEL
PLATING | NICHEM 1000A:40毫升/升
NICHEM 1000B:150毫升 /升
Ni(镍)的浓度:5.4-6.3克/升
PH值:9.0-9.5
操作温度:29-35℃
负载量:0.32-0.96平方分米/升
搅拌:工件移动,不能打气
过滤:连续过滤
补充方法:NICHEM 1000A和NICHEM 1000B用于开缸, NICHEM 1000A和
NICHEM 1000C用于补充,且按1:1比例补加,依据Ni含量的分析结果来补加,每提高0.3克/升的Ni,需添加2毫升/升的NICHEM 1000A和2毫升/升的NICHEM 1000C | 1. 特别适合用于铝及铝合金预镀化学镍。
2. 减少污染后续酸性化学镀液或其他电镀液。
3. 结合力优良。
4. 对复杂工件的处理更显其优越性。
5. 也可用于其他基体的电镀打底层。
6. 操作温度低。
|
碱性化学镀镍 | NICHEM 1100碱性化学镀镍
NICHEM 1100
AUTO-CATALYTIC NICKEL
PLATIN | NICHEM 1100X:60毫升/升
NICHEM 1100Y:100毫升 /升
总镍含量:6克/升
PH值:4.6-4.9
温度:82-93℃
过滤:连续过滤
搅拌:空气过滤或机械
沉积速度:15-23微米/小时
镀液负载量:0.65-1.7平方分米/升
镀层含铜量:6-9%磷
补充方法:提高1克/升镍含量时,须添加10毫升/升1100X及10毫升/升1100Z添加剂 |
1、 沉积层焊接性能非常好。
2、 沉积层全面光亮,延展性好。
3、 金属杂质容忍度极高。
4、 硬度特高,沉积层的硬度达500-600V.H.N,如再经400度热处理后,硬度可达900~ 1000V.H.N。
5、 更可适用于滚筒操作。
|